Canon'un Nanoimprint Litho Aracı Gofret Fabrikası Ekipman Pazarını Bozabilir - Dünyadan Güncel Teknoloji Haberleri

Canon'un Nanoimprint Litho Aracı Gofret Fabrikası Ekipman Pazarını Bozabilir - Dünyadan Güncel Teknoloji Haberleri

Canon yakın zamanda tanıtıldı 5nm sınıfı proses teknolojisinde çipler yapmak için kullanılabilen ve ASML’nin aşırı ultraviyole (EUV) litografi araçlarıyla rekabet edebilen nanoimprint litografi (NIL) aracı Bu damgalama yöntemi, deseni aktarmak için optik bir sisteme olan ihtiyacı ortadan kaldırır; bu da karmaşık devre tasarımlarının kalıptan levhaya daha hassas bir şekilde kopyalanmasına yol açabilir

Canon’un pazara girişi, jeopolitik gerilimlerin ASML’nin EUV ve gelişmiş DUV sistemlerinin Çin’e ihracatının yasaklanmasına yol açtığı bir zamanda gerçekleşti Ancak nihai fiyatlandırma henüz belirlenmedi ve Canon’un kendisi bile nanoimprint litografinin geleneksel EUV ve DUV tarayıcıların yerini alacağına inanmıyor Teorik olarak NIL, tek bir adımda karmaşık iki boyutlu veya üç boyutlu devre modelleri oluşturabilir, bu da potansiyel olarak üretim maliyetlerini de azaltabilir Bloomberg

Günümüzün 0,33 sayısal açıklığa sahip EUV sistemlerinin maliyeti 150 milyon dolardan fazladır Bu ambargo, yanlışlıkla Japonya’nın Temmuz ayında uygulamaya koyduğu sıkı çip üretimi ihracat kontrollerine açıkça dahil edilmeyen Canon’un yeni teklifleri için potansiyel bir niş yarattı

Geleneksel derin ultraviyole (DUV) ve aşırı ultraviyole (EUV) fotolitografi sistemleri, özel bir fotomask kullanarak dirençli katmanlı bir plaka üzerine bir devre deseni yansıtır Yine de bir sorun var Canon, NIL litografi makinesinin yaklaşık 15 milyon dolara mal olacağını ve bunun da küçük şirketlerin gelişmiş üretim düğümlerinde çip üretmesinin kapılarını açacağını ima ediyor

Mitarai, “Anladığım kadarıyla 14 nm teknolojisinin ötesindeki herhangi bir şeyin ihracatı yasaklanmıştır, dolayısıyla satış yapabileceğimizi düşünmüyorum” dedi

Ayrıca NIL için önemli bir endişe, baskı aşaması sırasında kalıp ile alt tabaka arasındaki doğrudan temastan dolayı kusurları toplama eğilimidir Fotolitografi tüm levhaların aynı anda (birden fazla adımda da olsa) işlenmesine izin verirken, NIL seri bir işlemdir ve daha yavaş olabilir Ancak Canon’un başkanı, şirketin 14 nm’nin altındaki çiplerin üretimine izin vermesi nedeniyle aracını Çin’e gönderemeyeceğine ve bu tür araçların Japon hükümetinden ihracat lisansları gerektirebileceğine inanıyor Buna karşılık, nanobaskı litografisi (NIL), devre tasarımıyla desenlendirilmiş bir maske (veya daha doğrusu bir kalıp) kullanır ve bu daha sonra doğrudan levha üzerindeki direncin üzerine damgalanır Görünen o ki Canon, aracını ASML’nin EUV litho makinelerinin çok altında bir fiyatla fiyatlandırmak istiyor; bu, büyük kaynaklara sahip olmayan küçük çip üreticileri için gelişmiş çip üretimine erişimi demokratikleştirebilecek Kalıp veya alt tabaka üzerindeki herhangi bir parçacık veya yabancı madde kusurlara neden olabilir ve potansiyel olarak üretim sürecinin verimini ve güvenilirliğini tehlikeye atabilir Halihazırda müşterilerimizden gelen birçok soruyu yanıtlıyoruz Bunu önlemek için sıkı bir süreç yönetimi ve aynı üretim kalitesini sağlamak için ultra temiz bir ortam gerekir

“Fiyat, ASML’nin EUV’sinden bir basamak daha az olacak [litho tool]Canon’un genel müdürü Fujio Mitarai, Bloomberg ile yaptığı röportajda şunları söyledi: “Nanoimprint teknolojisinin EUV’leri geride bırakmasını beklemiyorum, ancak bunun yeni fırsatlar ve talep yaratacağından eminim